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电沉积纳米晶Ni

　　电沉积薄膜具有典型的柱状晶结构，但可以用脉冲电流将其破碎。精心地控制温度、pH值和镀池的成份，高**属，电沉积的Ni晶粒尺寸可达10nm。但它在350K时就发生反常的晶粒长大，添加溶质并使其偏析在晶界上，以使之产生溶质拖拽和Zener粒子打轧效应，可实现结构的稳定。例如，添加千分之几的磷、流或金属元素足以使纳米结构稳定至600K。电沉积涂层脉良好的控制晶粒尺寸分布，表现为Hall-Petch强化行为、纯Ni的耐蚀性好。这些性能以及可直接涂履的工艺特点，使管材的内涂覆，尤其是修复核蒸汽发电机非常方便。这种技术已经作为 EectrosleeveTM工艺商业化。在这项应用中，微合金化的涂层晶粒尺寸约为 100nm，材料的拉伸强度约为锻造Ni的两倍，高**属碲，延伸率为15%。晶间开裂抗力大为改善。

力学性质：通常情况下，随着尺寸的减小，纳米金属材料的金属纳米线会体现出大块材料更好的机械性能。强度变强，韧度变好。 纳米金属材料的金属纳米线的结构：纳米金属材料的金属纳米线可以有多种形态。有时它们以非晶体的顺序出现，如五边对称或螺旋态。电子会在五边形管和螺旋管中蜿蜒而行。 

因为低电子浓度和低等效质量，高纯 金属，这种电导率的**化在半导体中比在金属中更加明显。**化的电导率可以在25nm的硅鳍中观测到(Tilke et. al.， 2003)，导致阀电压的升高。