纯度表示
实际上纯度以几个“9”()来表示(如杂质总含量为百万分之一,即称为6个“9”或6),高**属碲,是不完整概念,高**属锡,如电子器件用的**纯硅以金属杂质计算,高**属,其纯度相当于9个“9”,但如计入碳,则可能不到6个“9”。
****属的制备有化学提纯法如精馏****属(特别是金属氯化物的精馏及氢还原)、升华、溶剂萃取等和物理提纯法如区熔提纯等(见硅、锗、铝、镓、铟)。其中以区熔提纯或区熔提纯与其他方法相 结合较有效。
电沉积纳米晶Ni
电沉积薄膜具有典型的柱状晶结构,但可以用脉冲电流将其破碎。精心地控制温度、pH值和镀池的成份,电沉积的Ni晶粒尺寸可达10nm。但它在350K时就发生反常的晶粒长大,高**属材料,添加溶质并使其偏析在晶界上,以使之产生溶质拖拽和Zener粒子打轧效应,可实现结构的稳定。例如,添加千分之几的磷、流或金属元素足以使纳米结构稳定至600K。电沉积涂层脉良好的控制晶粒尺寸分布,表现为Hall-Petch强化行为、纯Ni的耐蚀性好。这些性能以及可直接涂履的工艺特点,使管材的内涂覆,尤其是修复核蒸汽发电机非常方便。这种技术已经作为 EectrosleeveTM工艺商业化。在这项应用中,微合金化的涂层晶粒尺寸约为 100nm,材料的拉伸强度约为锻造Ni的两倍,延伸率为15%。晶间开裂抗力大为改善。